Мы не ведаем лазерных тэхналогій
Мы не ведаем аб лазернай тэхналогіі, 1960 быў толькі першым паспяховым лазерным вытворчасцю.У выпадку з лазерам - гэта тэрмінова неабходная тэарэтычная падрыхтоўка і вытворчая практыка, і высветлілася, што неабходна хуткае развіццё незвычайнага, а не толькі развіццё лазера, каб старажытная навука оптыка і аптычныя тэхналогіі атрымалі новае жыццё, але і прывесці да з'яўлення цалкам новай галіны дзверы.Лазерная машына для лазернай рэзкі дазваляе людзям эфектыўна выкарыстоўваць беспрэцэдэнтныя перадавыя метады і сродкі, каб атрымаць беспрэцэдэнтныя перавагі і вынікі, каб спрыяць развіццю прадукцыйных сіл.
Тым не менш, як лазерная лазерная рэзка, лазерная зварка, лазерная рэзка была шырока распаўсюджана ў жыцці сярод вытворчасці, але і лазерны крышталь, лазерны тэрагерцавы такія веды, мы рэдка звязваліся з аўтарам гэтага артыкула, каб усе зірнулі на тыя, якія мы не знаёмыя з лазернымі тэхналогіямі.
Лазерная рэзка машына лазернага крышталя энергія можа быць пастаўлена знешняй аптычнай паражніны ў прасторавай і часовай кагерэнтнасці ў крышталічных матэрыялах вельмі паралельныя і манахраматычнага лазернага святла.Працоўны матэрыял - крышталічны лазер.Лазерны крышталь цэнтраў люмінесцэнцыі і матрычных крышталяў складаецца з двух частак.Большая частка святловыпрамяняльнага цэнтра шляхам актывацыі іённага лазера крышталічнай структуры, актыўныя іёны часткова замешчаных катыённых матрычных крышталяў, легаваных лазерных крышталяў.Калі вы актывуеце іён становіцца часткай кампанентаў крышталя гаспадара, ён уяўляе сабой самоактивирующийся лазерны крышталь.
Машына лазернай рэзкі лазернага крышталя выкарыстоўваецца ў асноўным для актыўных іёнаў пераходных металаў і трохвалентных рэдказямельных іёнаў.Аптычныя электронныя іёны пераходных металаў знаходзяцца ў вонкавым пласце 3d-электронаў у крышталях, такіх як аптычныя электронныя ўразлівыя да прамога ўздзеяння крышталічнага поля вакол, таму розныя тыпы крышталічнай структуры, яе спектральныя характарыстыкі вельмі розныя.Трохвалентныя рэдказямельныя іёны 4 f-электроны экрануюць знешнія электроны 5 s і 5 p, так што крышталічнае поле паслабляе сваю ролю, але роля крышталічнага поля выклікае абурэнне, было забаронена. 4 f-пераходы электронаў становяцца магчымымі для атрымання вузкага паглынання і лінія флуарэсцэнцыі.Такім чынам, трохвалентныя рэдказямельныя іёны ў спектрах розных крышталічных іёнаў пераходных металаў вельмі моцна мяняюцца.
Час размяшчэння: 25 студзеня 2019 г